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の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
波長172nm
> 45 mW/cm²強度
30L/分窒素投入量