172nm高エネルギー真空紫外線（UV）エキシマシステムは、
乾式工業洗浄および原子スケールでの表面改質。
半導体パッケージング、リチウムイオン電池開発、ディスプレイ製造分野向けに設計されており、
この高フラックス光子システムは、有機表面汚染物質の分子構造に作用する。
基板のバルク特性を変化させることなく。
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の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
モデル :
EX-C300動作温度 :
-5℃~50℃照射強度（照射面からの距離8mm） :
>45 mW/cm2窒素投入量 :
30Lpm総出力 :
<400W入力電圧（V） :
AC220V従来の低圧水銀ランプの10倍の洗浄速度を実現し、インライン処理やバッチ処理のサイクルを大幅に加速します。
処理幅に応じて各ランプモジュールを個別に切り替えることができ、エネルギーバランスを最大化し、ランプの総寿命を延ばします。
熱に弱い材料への熱損傷を防ぎ、基板表面温度を厳密に40℃を超えない安定した状態に保ちます。
標準的な水銀ランプ構成と比較して、光強度を損なうことなくエネルギー消費量を65%削減する、非常に環境に優しい建築設計。
非常にコンパクトな電源ユニットを搭載しており、スペースが限られた自動生産ライン内でも処理システム全体を容易にサポートします。
日常的な清掃やメンテナンスを容易に行えるように設計されており、作業員はランプを迅速に交換して、操業停止時間を回避できます。
指定された照射領域全体で±15%以内の照射均一性を保証し、バッチ処理の安定性を大幅に向上させます。
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均一な生産校正を保証する、認証済みの品質および環境管理システム。
欧州の労働衛生、システム安全、および保護基準に完全に準拠しています。
鉛、水銀、および規制対象の有害重元素を含まない、環境に配慮したハードウェア設計。
北米の厳格な電気絶縁、接地、および動作安全基準を満たしています。
超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。
GMYの製品で表面処理の精度を向上させましょう 172nmエキシマランプ高度な技術を活用する 光化学酸化当社の水銀を含まない172nmの紫外線照射ソリューションは、有機汚染物質を効果的に分解し、半導体ウェハー、ディスプレイ基板、光学デバイス上の原子レベルの清浄度を実現します。
GMYの高効率性を発見 172nmエキシマランプ のために 工業用光硬化水銀を含まない強力な350W～1000WのVUV光は、表面の迅速な架橋、マット仕上げ、PPF/PCBコーティングの改質に使用できます。従来のUV硬化と比較して、硬化時間を短縮し、表面改質効果を高めます。
の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。
GMY 172nmエキシマランプ 高エネルギーVUV放射線を TOCを分解する 超純水中のppbレベルまで。工業用水処理用の水銀フリー15W/20Wランプ。当社のUVライトシステムは、フリーラジカルを生成することで有機物を酸化し、CO₂とH₂O分子に変換します。この先進技術は、特に超純水製造に適しています。
の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
