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超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。

GMYの製品で表面処理の精度を向上させましょう 172nmエキシマランプ高度な技術を活用する 光化学酸化当社の水銀を含まない172nmの紫外線照射ソリューションは、有機汚染物質を効果的に分解し、半導体ウェハー、ディスプレイ基板、光学デバイス上の原子レベルの清浄度を実現します。

GMYの高効率性を発見 172nmエキシマランプ のために 工業用光硬化水銀を含まない強力な350W～1000WのVUV光は、表面の迅速な架橋、マット仕上げ、PPF/PCBコーティングの改質に使用できます。従来のUV硬化と比較して、硬化時間を短縮し、表面改質効果を高めます。

の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。

の 172nm MINlエキシマモジュール コンパクトでプラグアンドプレイ対応のデスクトップソリューションです。 半導体研究開発 そして 実験室での検証短波長真空紫外線（VUV）を照射することで、分子結合を切断し、有機汚染物質を除去し、基板を損傷することなく表面エネルギーを変化させるため、研究室や大学向けの機敏なプロセス検証プラットフォームを提供する。

SunGlo 375/575/750nmシリーズは ハロゲン光源 放出する 高効率赤外線その優れた浸透力は、7センチメートル以上の深さの組織にまで到達し、強力な深部浸透効果を発揮します。これにより、代謝と細胞修復を促進する理想的な温熱浸透効果が得られるだけでなく、抗炎症作用、鎮痛作用、筋肉痛や骨痛の緩和効果も期待できます。

UV3紫外線殺菌ランプは、広範囲の空間および表面の除菌のために設計された、非常に効率的な病原体除去ソリューションを提供します。高度なUV殺菌技術を採用したこの高性能ランプは、指定されたエリア内の様々な細菌やウイルスを効果的に抑制・除去し、空気と表面の両方の環境を安全に浄化します。

高効率滅菌： 99.9%という驚異的な除菌率を実現し、有害な微生物の分子構造を迅速に破壊するとともに、指定区域内の重要なウイルスや細菌の増殖を抑制します。
純粋な物理的消毒： 有毒な化学薬品や腐食性残留物を使用せずに全面的な深層殺菌を行い、二次汚染のない安全でクリーンな浄化プロセスを保証します。
多用途な空間適応性： 高い殺菌性能を発揮するように厳密に設計されており、幅広い空間や環境において非常に効率的な消毒を行うための理想的な選択肢となります。

185nm TOC低減UVランプは、高負荷の純水および超純水製造システム向けに設計された、業界をリードする光化学酸化ソリューションを提供します。高度な185nm真空UV技術を採用したこれらの高品質ストレートチューブは、難分解性有機物に対して優れた分解速度を実現し、高純度工業用流体規格への厳格な準拠を保証します。

高度な185nm TOC破壊技術： 精密な185nmの紫外線技術を用いて、水マトリックス内で強力なヒドロキシルラジカルを生成し、複雑な有機化合物を無害な二酸化炭素と水に積極的に酸化します。
超純水処理の安全性： 有害な化学添加物を使用せずに、プロ仕様の高度な有機物分解を行い、半導体、医薬品、電子機器の流体ループ向けに最適化された純粋な物理酸化プロセスを実現します。
業務用12,000時間以上の寿命： 12,000時間を超える安定した出力という卓越した高強度耐用年数を誇り、機器のメンテナンス間隔を大幅に延長し、純水製造施設の継続的な稼働時間を保証します。

直線型UV殺菌ランプは、大規模な都市下水処理システム向けに設計された、業界をリードする病原菌除去ソリューションを提供します。強力なUV-C波技術を採用したこれらの高品質直線型ランプは、広範囲にわたる耐性のある総大腸菌群や水系病原菌に対して優れた殺菌効果を発揮し、厳格な環境排出基準への準拠を保証します。

廃水処理システムに最適化： 都市下水処理場や大型開水路式処理施設向けに特別に設計されており、高いUVC透過率と最適化された放射線量により、確実な細菌除去を保証します。
多業種対応の流体適合性： 残留物を生じさせたり、味を変えたりすることなく、化学物質を使用せずに純粋な物理的殺菌を行うため、水のリサイクルシステム、食品加工施設、飲料工場に最適です。
業務用12,000時間以上の寿命： 12,000時間を超える安定した性能という卓越した高出力寿命を誇り、機器のメンテナンス間隔を大幅に延長し、オペレーターの交換コストを削減します。

完全防水型UV殺菌ランプは、高処理能力の廃水・下水処理システム向けに設計された、業界をリードする病原菌除去ソリューションを提供します。強力なUV-C波技術を採用したこの堅牢なIP68規格準拠の製品は、広範囲にわたる耐性のある大腸菌群や水系病原菌に対して優れた殺菌効果を発揮し、厳格な環境排出基準への準拠を保証します。

IP68深度防水構造： 完全密閉型の高耐久性一体設計を採用し、24時間365日連続稼働可能な業務用水中病原体除去のために、常に完全に水中に沈められるように設計されています。
純粋な物理的消毒： 有毒な化学薬品や塩素を使用せずに、迅速な液面深層殺菌を行い、二次汚染を防ぎ、処理水の味や成分を維持します。
動作寿命の延長： 12,000時間を超える卓越した高出力寿命を誇り、要求の厳しい産業施設において、耐久性、安定性、低メンテナンス性を備えた運転性能を保証します。

T5 UV殺菌消毒トンネルチューブは、高スループットの空間および表面消毒向けに設計された、業界をリードする病原体除去ソリューションを提供します。UV-C波技術を利用したこの高耐久性コンポーネントは、大腸菌やインフルエンザA型ウイルスを含む、幅広い種類の耐性菌やウイルスに対して、99.9%という卓越した消毒率を実現します。

99.9%の高効率除菌： 精密な254nmの光エネルギーによって有害微生物のDNAとRNAの分子構造を破壊し、重要なウイルスや細菌を数秒以内に抑制します。
純粋な物理的消毒： 有毒な化学薬品、腐食性残留物、二次汚染物質を使用せずに、表面全体を徹底的に殺菌し、様々な産業分野におけるプロセスの安全性を確保します。
多用途な空間適応性： 高い殺菌性能を発揮するように厳密に設計されており、製造、物流、加工トンネルにおける空気および表面の浄化に最適な選択肢です。