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172nmエキシマランプモジュール半導体ウェハー&マスクUV洗浄FMM/インバーフィルムマット
ナノスケールの有機汚染物質を除去します。半導体ウェハーのUV洗浄、FMMファインメタルマスク洗浄、インバーマスク洗浄、OLED蒸着マスク洗浄、フォトマスク洗浄、PCBのUV洗浄、ローラーコーティングラインにおけるエキシマUVマット処理などに幅広く使用されています。浜松ホトニクス社製およびウシオ電機社製の172nmエキシマランプに代わる、コスト効率の高い代替品として最適です。
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