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の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。
保管温度（℃） :
-40真空度（kPa） :
50起動時間（秒） :
0.7作業時間（秒） :
10耐用年数（回） :
10000入力電力 :
120入力電流（A） :
5入力電圧（V） :
DC24高エネルギー172nm出力により、治療時間を大幅に短縮できます。
低温光照射は、熱による損傷から材料を保護します。
広範囲かつ均一なカバー範囲により、端から端まで完璧な修正が保証されます。
高速起動により、待ち時間なしで即座にパフォーマンスを発揮します。
長期にわたる耐久性と、完璧で中断のない動作を実現するために設計されています。
極度の真空状態や低温環境下でも高い安定性を維持します。
お客様の製品規模に合わせた、柔軟で顧客固有の研究開発ソリューションを提供します。
172nmの真空紫外光を用いて、材料表面から炭化水素、油、有機残留物を効率的に除去します。
コーティングおよび接着用途における表面濡れ性と接着性能を向上させます。
最高水準の製造基準を保証する、認証済みの品質管理システム。
欧州の健康、安全、環境保護に関する法令を完全に遵守しています。
有害物質を一切使用しない、環境に優しい製造方法。
北米における最高水準の電気セキュリティおよび防火基準への適合。
超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。
GMYの製品で表面処理の精度を向上させましょう 172nmエキシマランプ高度な技術を活用する 光化学酸化当社の水銀を含まない172nmの紫外線照射ソリューションは、有機汚染物質を効果的に分解し、半導体ウェハー、ディスプレイ基板、光学デバイス上の原子レベルの清浄度を実現します。
GMYの高効率性を発見 172nmエキシマランプ のために 工業用光硬化水銀を含まない強力な350W～1000WのVUV光は、表面の迅速な架橋、マット仕上げ、PPF/PCBコーティングの改質に使用できます。従来のUV硬化と比較して、硬化時間を短縮し、表面改質効果を高めます。
の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。
GMY 172nmエキシマランプ 高エネルギーVUV放射線を TOCを分解する 超純水中のppbレベルまで。工業用水処理用の水銀フリー15W/20Wランプ。当社のUVライトシステムは、フリーラジカルを生成することで有機物を酸化し、CO₂とH₂O分子に変換します。この先進技術は、特に超純水製造に適しています。
の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
