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超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。
治療の均一性 :
±10%172nmにおける放射照度（中心点） :
>20 mW/cm² (@1mm)平均耐用年数 :
1,000 hrs (irradiance ≥70%)動作電圧 :
AC 2.0kV +20%ランプ電力 :
20W ±10%AI冷却板用172nmエキシマモジュール（有機粒子除去、CDU水TOC低減、超純水精製用）
GMY 172nm VUVエキシマランプモジュールは、AIインフラストラクチャにおける2つの重要な液体冷却および水浄化アプリケーション向けに設計されています。(1) AIサーバーのコールドプレートの有機粒子除去 - 172nm真空紫外線光子ストリームがコールドプレート表面の有機分子を光分解し、液体冷却ループ内の粒子数とサイズを大幅に削減します。(2) CDU補給水のTOC削減 - CDU水ライン内で動作し、ラジカル酸化を生成して超純水中の全有機炭素をppbレベルまで削減し、化学薬品の注入を置き換えます。
水銀不使用で瞬時に起動し、1mmの距離で20mW/cm²以上の出力を実現するこのモジュールは、コスト効率の高い中国製代替品として機能し、流量、ワット数、インターフェースサイズなど、完全なOEMカスタマイズが可能です。
当社の強み：
172nmの真空紫外光（VUV）光子は、冷却プレート表面の有機汚染物質を直接光分解し、液体冷却ループ内の有機粒子のサイズと数の両方を低減します。このUV駆動の冷却プレート洗浄方法は、化学洗浄に代わる、あるいは補完するものであり、AIサーバーの熱性能とCDUシステムの信頼性を確保します。
冷却水分配ユニット（CDU）の補給水ループに直接設置されるインライン172nm UVモジュール。ラジカル酸化反応を起こして溶解有機化合物を分解し、TOCを1桁ppbレベルまで低減するとともに、循環式AI液冷却水中の有機粒子負荷を低減します。
対象：CDUメイクアップ水のTOC除去 UV/172nm UVランプ CDU水処理
半導体製造工場における超純水（UPW）ループ向けに、172nmの真空紫外光（VUV）光子が微量の有機分子を迅速に酸化してCO2とH2Oに分解し、ppbレベルのTOC（全有機炭素）制御を実現します。ITRS 7nm/5nmロードマップの純度要件に対応します。
対象：超純水TOC除去UVランプ／UV TOC低減超純水
高性能実験用水処理装置向けのコンパクトな172nm VUV有機物分解コア。モジュール式プラグイン設計により、容易な統合と交換が可能。
20 mW/cm²（@1mm）の照射量で、TOCをppbレベルまで迅速に低減します。
安定した長期的な産業サイクル向けに設計されており、1,000時間以上にわたって70%以上の強度を維持します。
均一な水質浄化を確保するため、変動を厳密な閾値内に制限します。
耐腐食性の石英スリーブとモジュール式レイアウトを採用することで、パイプラインの設置および交換コストを大幅に削減します。
特定の流量に合わせて、電力容量、インターフェースサイズ、取り付けスタイルをカスタマイズできます。
環境に優しく、水銀を含まない172nm技術を採用し、世界の環境規制に対応しています。
豊富なVUV製造技術に裏打ちされた、高いロット一貫性と世界規模での納期厳守を保証します。
最高水準の製造基準を保証する、認証済みの品質管理システム。
欧州の健康、安全、環境保護に関する法令を完全に遵守しています。
有害物質を一切使用しない、環境に優しい製造方法。
北米における最高水準の電気セキュリティおよび防火基準への適合。
超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。
GMYの製品で表面処理の精度を向上させましょう 172nmエキシマランプ高度な技術を活用する 光化学酸化当社の水銀を含まない172nmの紫外線照射ソリューションは、有機汚染物質を効果的に分解し、半導体ウェハー、ディスプレイ基板、光学デバイス上の原子レベルの清浄度を実現します。
GMYの高効率性を発見 172nmエキシマランプ のために 工業用光硬化水銀を含まない強力な350W～1000WのVUV光は、表面の迅速な架橋、マット仕上げ、PPF/PCBコーティングの改質に使用できます。従来のUV硬化と比較して、硬化時間を短縮し、表面改質効果を高めます。
の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。
GMY 172nmエキシマランプ 高エネルギーVUV放射線を TOCを分解する 超純水中のppbレベルまで。工業用水処理用の水銀フリー15W/20Wランプ。当社のUVライトシステムは、フリーラジカルを生成することで有機物を酸化し、CO₂とH₂O分子に変換します。この先進技術は、特に超純水製造に適しています。
の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
