伝言を残す
弊社製品にご興味をお持ちで、さらに詳しい情報をご希望の場合は、こちらにメッセージを残してください。できる限り早くご返信いたします。
の 172nm MINlエキシマモジュール コンパクトでプラグアンドプレイ対応のデスクトップソリューションです。 半導体研究開発 そして 実験室での検証短波長真空紫外線（VUV）を照射することで、分子結合を切断し、有機汚染物質を除去し、基板を損傷することなく表面エネルギーを変化させるため、研究室や大学向けの機敏なプロセス検証プラットフォームを提供する。
モデル :
EX-D75-1中心放射照度（@1mm） :
>10mW/cm²照射均一性 :
±10%出力90%に達するまでの時間 :
≤5 secondsランプの平均寿命 :
>1000 hours冷却方法 :
Air coolingモジュール寸法（長さ×幅×高さ） :
209×142×69 mm窓開口部のサイズ（長さ×幅） :
75×50 mm
研究開発チームは、EX-C300を使用して、ダイアタッチ、フリップチップ、ハイブリッドボンディング面を活性化するための最適な172nm VUVパラメータ（露光量、作動距離、サイクル時間）を調整します。卓上型であるため、再現性の高い表面エネルギーデータが得られ、生産工程に引き渡す前に検証済みのボンディングレシピを作成できます。
研究者らは、ALD、CVD、またはPVD処理に先立ち、ベアウェハおよびパターン付きテストウェハに172nmのVUV光子を照射して清浄度基準値を確立する。40℃以下の低温処理により熱負荷リスクを排除し、処理後のXPSおよび接触角データからプロセス認定に必要な最小有効線量を決定する。
EX-C300は、純粋な光化学酸化によって微細な金属マスクやフォトマスク上の有機汚染を除去します。接触も化学薬品も残留物も一切使用しません。繰り返し試験を行った結果、ナノメートルスケールのマスク構造が損なわれないことが確認され、生産導入に向けた安全な累積照射量とサイクル制限が定められました。
フィルムおよびバッテリーの研究開発ラボでは、制御された172nmの照射下でポリマーフィルム（PET、PI、COP）と電極箔を処理し、接触角の減少と接着力の向上を測定します。低温光子プロセスにより、デリケートな材料への熱損傷を回避でき、得られたデータは製造工程に直接反映されます。つまり、製造前にベンチテストを実施できるのです。
コンパクトで軽量、デスクトップ設置に対応したプラグアンドプレイ設計。
高輝度172nm紫外線出力、5秒で安定点火。
均一な照射量により、一貫性のある信頼性の高い処理結果が得られます。
空冷式のため、外部冷却システムは不要です。
カスタマイズ可能なアプリケーションソリューションと、受託実験サービスをご利用いただけます。
最高水準の製造基準を保証する、認証済みの品質管理システム。
欧州の健康、安全、環境保護に関する法令を完全に遵守しています。
有害物質を一切使用しない、環境に優しい製造方法。
北米の厳格な電気絶縁、接地、および動作安全基準を満たしています。
超純水（UPW）システム向けに設計された、環境に優しく水銀を含まない製品です。 172nm VUVモジュール 強力なラジカル酸化反応を誘発し、TOCをppbレベルまで低減します。有機化合物を微量のCO₂とH₂Oに変換することで、半導体、医薬品、研究室向けの理想的な水浄化ソリューションを提供します。スマートなモジュール設計により、現場でのメンテナンスとシステムの拡張が容易になり、電力レベルと流量のカスタマイズにも完全対応しています。
GMYの製品で表面処理の精度を向上させましょう 172nmエキシマランプ高度な技術を活用する 光化学酸化当社の水銀を含まない172nmの紫外線照射ソリューションは、有機汚染物質を効果的に分解し、半導体ウェハー、ディスプレイ基板、光学デバイス上の原子レベルの清浄度を実現します。
GMYの高効率性を発見 172nmエキシマランプ のために 工業用光硬化水銀を含まない強力な350W～1000WのVUV光は、表面の迅速な架橋、マット仕上げ、PPF/PCBコーティングの改質に使用できます。従来のUV硬化と比較して、硬化時間を短縮し、表面改質効果を高めます。
の GMY 172nm光改質モジュール 本モジュールは、歯科インプラントの親水性を活性化するための、真空対応の最先端ソリューションです。高精度な172nmエキシマレーザー技術により、有機炭化水素を分解することでチタン表面を浄化し、TiO2の生体活性と骨結合を劇的に向上させます。シームレスなデバイス統合を念頭に設計された本モジュールは、高出力、最小限の熱影響、迅速な反応サイクル、広範囲かつ均一なビーム照射範囲が特長です。
GMY 172nmエキシマランプ 高エネルギーVUV放射線を TOCを分解する 超純水中のppbレベルまで。工業用水処理用の水銀フリー15W/20Wランプ。当社のUVライトシステムは、フリーラジカルを生成することで有機物を酸化し、CO₂とH₂O分子に変換します。この先進技術は、特に超純水製造に適しています。
の 172nmエキシマUVデバイス 届ける 高エネルギー写真クリーニング そして ナノレベルの表面改質 半導体、バッテリー、先端材料向け。低温172nm UV光子を利用するこのコンパクトなシステムは、基板を損傷することなく有機化学結合を切断し、汚染物質を酸化します。 ±15% また、動作温度が40℃以下であるため、従来の低圧水銀ランプに代わる、環境に優しく低消費電力の代替品となる。
